З 84 Б492 Берлин, Евгений Владимирович. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии / Е. Берлин, Л. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2010. - 527 с., [8] л. ил., цв. ил. : ил ; 25 см. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр. в конце гл. -
Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): тонкие пленки - ионно-плазменное травление -- тонкие пленки - ионно-плазменное нанесение Доп.точки доступа: Сейдман, Лев Александрович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/665 Pr1068/665 / Pr1068/665-02 Forsgren, Katarina. CVD and ALD of group IV- and V-oxides for dielectric applications : сборник / K. Forsgren. - Uppsala : [s. n.], 2001. - 55 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 665) Bibliogr.: p. 49-55 Перевод заглавия: Химическое парофазное осаждение и отложение атомарного слоя материалов IV группы и V-окислов для диэлектрических применений Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): газофазное осаждение -- окислы тантала -- циркония и гафния Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/594 Pr1068/594 / Pr1068/594-02 Schuisky, Mikael. CVD and ALD in the Bi-Ti-O system : сборник / M. Schuisky. - Uppsala : [s. n.], 2000. - 47 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 594) Bibliogr.: p. 43-46 Перевод заглавия: Химическое осаждение из паровой фазы и отложение атомарного слоя в системе Bi-Ti-O Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): окислы титана -- окислы висмута -- эпитаксия Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
З 84 П226 З 84 / П226-02 Пащенко, Александр Сергеевич. Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике = Ion-plasma technologies in micro- and nanoelectronics / А. С. Пащенко, П. С. Пляка, В. О. Пономаренко ; Рос. акад. наук, Юж. науч. центр. - Ростов-на-Дону : Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. - 175 с. : ил. ; 22 см. - Библиогр.: с. 168-175. - 200 экз. На тит. с.: Юж. науч. центр Рос. акад. наук - 10 лет
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): ионно-плазменное напыление тонких пленок Доп.точки доступа: Пляка, Павел Стефанович; Пономаренко, Валерий Олегович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
V30 И-З 84 И-З 84 / И-З 84-02 Vasilyev, Vladislav Yu.. Thin film chemical vapor deposition in electronics : equipment, methodology and thin film growth experience / V. Yu. Vasilyev. - New York : Nova science publishers, 2014. - XV,304 p. : ill. - (Materials science and technologies). - Bibliogr. at the end of the chapters. - Ind.: p. 297-304 Перевод заглавия: Химическое осаждение из паровой фазы тонких пленок в электронике
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Перейти: Оглавление Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Пр3939 Пр3939/9 Пр3939/9 / Пр3939/9-02 Субмикронные технологии : сборник / Отв. ред. Репин В.Н. - Москва : Наука, 1995. - 79 с. : ил. - (Труды ФТИАН / Физико-технологический институт (Москва), ISSN 0868-7129 ; т.9). - Библиогр. в конце ст. - Рубрики: Кремний--Как полупроводниковый материал Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Дескрипторы: сб пр -- сб Доп.точки доступа: Репин, В.Н. \ред.\ Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
З 84 Б492 З 84 / Б492-02 Берлин, Евгений Владимирович. Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения / Е. В. Берлин, В. Ю. Григорьев, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2018. - 461 с. : ил. - Библиогр.: с. 438-461. -
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Плазмохимическое травление--В производстве микроэлектронных приборов Доп.точки доступа: Григорьев, Василий Юрьевич; Сейдман, Лев Александрович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
З 84 В191 З 84 / В191-02 Васильев, Владислав Юрьевич. Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники : [учебное пособие] / В. Ю. Васильев ; Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, Новосибирский государственный технический университет, [Факультет радиотехники и электроники]. - Новосибирск : Издательство НГТУ, 2019. - 105, [1] с. : ил. ; 21 см. - Библиогр.: с. 99-103 (46 назв.). - Библиогр. в конце гл. - 50 экз.. -
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Нанотехнология--В электронике Кл.слова (ненормированные): Пленки тонкие - Осаждение из газовой фазы Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |