З 84 Б492 Берлин, Евгений Владимирович. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии / Е. Берлин, Л. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2010. - 527 с., [8] л. ил., цв. ил. : ил ; 25 см. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр. в конце гл. -
Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): тонкие пленки - ионно-плазменное травление -- тонкие пленки - ионно-плазменное нанесение Доп.точки доступа: Сейдман, Лев Александрович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/679 Pr1068/679 / Pr1068/679-02 Bjorklund, Kajsa. Microfabrication of tungsten, molybdenum and tungsten carbide rods by laser-assisted CVD [Text] : сборник / K. Bjorklund. - Uppsala : [s. n.], 2001. - VII,44 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 679) Bibliogr.: p. 40-44 Перевод заглавия: Микропроизводство стержней из вольфрама, молибдена и карбида вольфрама с помощью лазерного химического парового осаждения Рубрики: металлы--покрытие--химическое осаждение Кл.слова (ненормированные): вольфрам -- молибден -- карбид вольфрама Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/665 Pr1068/665 / Pr1068/665-02 Forsgren, Katarina. CVD and ALD of group IV- and V-oxides for dielectric applications : сборник / K. Forsgren. - Uppsala : [s. n.], 2001. - 55 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 665) Bibliogr.: p. 49-55 Перевод заглавия: Химическое парофазное осаждение и отложение атомарного слоя материалов IV группы и V-окислов для диэлектрических применений Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): газофазное осаждение -- окислы тантала -- циркония и гафния Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/594 Pr1068/594 / Pr1068/594-02 Schuisky, Mikael. CVD and ALD in the Bi-Ti-O system : сборник / M. Schuisky. - Uppsala : [s. n.], 2000. - 47 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 594) Bibliogr.: p. 43-46 Перевод заглавия: Химическое осаждение из паровой фазы и отложение атомарного слоя в системе Bi-Ti-O Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): окислы титана -- окислы висмута -- эпитаксия Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/191 Pr1068/191 / Pr1068/191-02 Larsson, Mats. Deposition and evaluation of thin hard PVD coatings [Text] : сборник / M. Larsson. - Uppsala : [s. n.], 1996. - 40 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 191) Bibliogr.: p. 39-40 Перевод заглавия: Нанесение и оценка тонких жестких покрытий, получаемых методом физического парового осаждения Рубрики: Металлы--Нанесение покрытий Кл.слова (ненормированные): осаждение -- трибологические характеристики Дескрипторы: сб пр -- дис Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/192 Pr1068/192 / Pr1068/192-02 Bromark, Michael. Wear resistance of PVD coatings for tool applications [Text] : сборник / M. Bromark. - Uppsala : [s. n.], 1996. - 42 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 192) Bibliogr.: p. 40-42 Перевод заглавия: Износоустойчивость покрытий для инструментального применения, полученных методом физического парового осаждения Рубрики: Нанесение покрытий--В инструментальном производстве Свойства--Структура--Металлопокрытий Кл.слова (ненормированные): покрытия -- осаждение -- химические -- микроструктурные Дескрипторы: сб пр -- дис Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/239 Pr1068/239 / Pr1068/239-02 Stenberg, Goran. Methylene iodide as the carbon source in thermal and photolytic CVD of amorphous carbon [Text] : сборник / G. Stenberg. - Uppsala : [s. n.], 1996. - 42 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 239) Bibliogr.: p. 41-42 Перевод заглавия: Осаждение аморфного углерода в парах иодистого метилена Рубрики: Аморфный углерод--Осаждение на синтетический алмаз Кл.слова (ненормированные): фотолиз -- аморфный углерод Дескрипторы: сб пр -- дис Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/349 Pr1068/349 / Pr1068/349-02 Andersson, Staffan. Photoelectron spectroscopic studies of deposited metal clusters and model catalyst systems [Text] : сборник / S. Andersson. - Uppsala : [s. n.], 1998. - 48 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 349) Bibliogr.: p. 47-48 Перевод заглавия: Исследования осажденных кластеров металлов и модельных каталитических систем методом фотоэлектронной спектроскопии Рубрики: Металлопокрытия--Структура--Свойства--Фотоэлектронной спектроскопии метод Кл.слова (ненормированные): кластеры -- металлов -- осаждение Дескрипторы: сб пр -- дис Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/398 Pr1068/398 / Pr1068/398-02 Tagtstrom, Per. Vapor phase deposition of WO and WC [Text] : сборник / P. Tagtstrom. - Uppsala : [s. n.], 1998. - 46 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 398) Bibliogr.: p. 44-46 Перевод заглавия: Осаждение WO и WC из паровой фазы Рубрики: Вольфрамирование металлов--Сцепляемость покрытий с основным металлом Кл.слова (ненормированные): тонкие пленки -- осаждение из паровой фазы Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/428 Pr1068/428 / Pr1068/428-02 Wiklund, Urban. Mechanics and tribology of micro- and nanolayered PVD coatings [Text] : сборник / U. Wiklund. - Uppsala : [s. n.], 1999. - 47 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 428) Bibliogr.: p. 45-47 Перевод заглавия: Механика и трибология микро- и нанопокрытий, полученных методом физического осаждения из паровой фазы Рубрики: Осаждение--Металлов--При нанесении покрытий--Структура, свойства, металлопокрытий Кл.слова (ненормированные): осаждение из паровой фазы Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/507 Pr1068/507 / Pr1068/507-02 Hogberg, Hans. Low-temperature deposition of epitaxial transition metal carbide films and superlattices using C60 as carbon source [Text] : сборник / H. Hogberg. - Uppsala : [s. n.], 2000. - 55 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 507) Bibliogr.: p. 52-55 Перевод заглавия: Низкотемпературное осаждение эпитаксиальных пленок карбидов переходных металлов и сверхрешеток с использованием С60 в качестве источника углерода Рубрики: Металлопокрытия Кл.слова (ненормированные): переходные металлы -- низкотемпературная эпитаксия Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1068 Pr1068/554 Pr1068/554 / Pr1068/554-02 Lindstam, Mikael. Photon stimulated CDV of amorphous carbon thin films [Text] : сборник / M. Lindstam. - Uppsala : [s. n.], 2000. - 39 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 554) Bibliogr.: p. 38-39 Перевод заглавия: Стимулированное протонами химическое осаждение из паровой фазы тонких пленок из аморфного углерода Рубрики: Аморфный углерод--Тонкие пленки--Осаждение из паровой фазы--На металл Кл.слова (ненормированные): фотолиз -- кинематика -- тепловая активация Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Л7 Э455 Л7 / Э455-02 Электрохимия нанокомпозитов. Металл-ионообменник / Т. А. Кравченко, Е. В. Золотухина, М. Ю. Чайка, А. Б. Ярославцев ; Рос. акад. наук, Ин-т общ. и неорган. химии им. Н. С. Курнакова, М-во образования и науки РФ, Воронеж. гос. ун-т. - Москва : Наука, 2013. - 363, [1] с. ; 21 см. - Библиогр. в конце гл. - 250 экз.. -
Рубрики: Металлополимеры--Электрические свойства Кл.слова (ненормированные): Металлы - Осаждение электролитическое Перейти: Оглавление Доп.точки доступа: Кравченко, Тамара Александровна; Золотухина, Екатерина Викторовна; Чайка, Михаил Юрьевич; Ярославцев, Андрей Борисович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
К6 С952 К6 / С952-02 Сыркин, Виталий Григорьевич. CVD- метод. Химическое парофазное осаждение [Текст] / В.Г. Сыркин ; Рос. акад. наук. Ин-т металлоорган. химии им. Г.А. Разуваева. - М. : Наука, 2000. - 496 с. : ил. Библиогр.: с. 467-491 Рубрики: Газофазная металлизация Тонкие пленки--Изготовление Дескрипторы: моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
З 84 П226 З 84 / П226-02 Пащенко, Александр Сергеевич. Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике = Ion-plasma technologies in micro- and nanoelectronics / А. С. Пащенко, П. С. Пляка, В. О. Пономаренко ; Рос. акад. наук, Юж. науч. центр. - Ростов-на-Дону : Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. - 175 с. : ил. ; 22 см. - Библиогр.: с. 168-175. - 200 экз. На тит. с.: Юж. науч. центр Рос. акад. наук - 10 лет
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): ионно-плазменное напыление тонких пленок Доп.точки доступа: Пляка, Павел Стефанович; Пономаренко, Валерий Олегович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Pr1102 Pr1102/6902 Pr1102/6902 / Pr1102/6902-02 Lattemann, Martina. Herstellung und Charakterisierung kovalent gebundener Ein- und Viellagenschichten aus dem System B-C-N-Si [Text] : монография / M. Lattemann. - Karlsruhe : [s. n.], 2004. - XX,178 S : Ill. - (Wissenschaftliche Berichte / Forschungszentrum (Karlsruhe), ISSN 0947-8620 ; FZKA 6902). - Bibliogr.: S. 163-178 Перевод заглавия: Осаждение и характеристики ковалентно связанных одно- и многослойных покрытий системы B-C-N-Si
Рубрики: Электроосаждение--Металлов и сплавов Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
V30 И-З 84 И-З 84 / И-З 84-02 Vasilyev, Vladislav Yu.. Thin film chemical vapor deposition in electronics : equipment, methodology and thin film growth experience / V. Yu. Vasilyev. - New York : Nova science publishers, 2014. - XV,304 p. : ill. - (Materials science and technologies). - Bibliogr. at the end of the chapters. - Ind.: p. 297-304 Перевод заглавия: Химическое осаждение из паровой фазы тонких пленок в электронике
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Перейти: Оглавление Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Пр3939 Пр3939/9 Пр3939/9 / Пр3939/9-02 Субмикронные технологии : сборник / Отв. ред. Репин В.Н. - Москва : Наука, 1995. - 79 с. : ил. - (Труды ФТИАН / Физико-технологический институт (Москва), ISSN 0868-7129 ; т.9). - Библиогр. в конце ст. - Рубрики: Кремний--Как полупроводниковый материал Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Дескрипторы: сб пр -- сб Доп.точки доступа: Репин, В.Н. \ред.\ Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
Л7 М597 Л7 / М597-02 Микро- и нанокомпозиционные полимерные покрытия, осаждаемые из активной газовой фазы = Micro- and nanocomposite polymer coatings deposited from active gas phase / М. А. Ярмоленко, А. А. Рогачев, П. А. Лучников [и др.] ; под ред. А. В. Рогачева. - Москва : Радиотехника, 2016. - 424 с. : ил. ; 22 см. - Библиогр.: с. 374-420. - 1000 экз. На пер. авт. не указаны
Рубрики: Полимерные покрытия--Теория Кл.слова (ненормированные): Пленки полимерные - Осаждение из газовой фазы Перейти: Оглавление Доп.точки доступа: Ярмоленко, Максим Анатольевич; Лучников, Петр Александрович; Рогачев, Александр Владимирович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |
З 84 Б492 З 84 / Б492-02 Берлин, Евгений Владимирович. Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения / Е. В. Берлин, В. Ю. Григорьев, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2018. - 461 с. : ил. - Библиогр.: с. 438-461. -
Рубрики: Осаждение--Тонких пленок--В микроэлектронике Плазмохимическое травление--В производстве микроэлектронных приборов Доп.точки доступа: Григорьев, Василий Юрьевич; Сейдман, Лев Александрович Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |