З 85 Ф947/N37 З 85 / Ф947/N37-02 Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники = Fundamental bases of chemical vapour deposition procesess of films and structures for nanoelectronics / [Ф. А. Кузнецов и др.] ; отв. ред. Т. П. Смирнова ; Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т неорган. химии им. А. В. Николаева и др. - Новосибирск : Изд-во Сиб. отд-ния Рос. акад. наук, 2013. - 175 с. : ил. - (Интеграционные проекты СО РАН ; вып. 37). - Библиогр.: с. 156-171 Авт. указаны на обороте тит. л.
Рубрики: Наноэлектроника--Производство Перейти: Оглавление Доп.точки доступа: Кузнецов, Ф. А.; Воронков, М. Г.; Борисов, В. О.; Игуменов, И. К.; Смирнова, Т. П. \ред.\ Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |