Pr1068 Pr1068/665 Pr1068/665 / Pr1068/665-02 Forsgren, Katarina. CVD and ALD of group IV- and V-oxides for dielectric applications : сборник / K. Forsgren. - Uppsala : [s. n.], 2001. - 55 p. : Ill. - (Acta universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, ISSN 1104-232X ; 665) Bibliogr.: p. 49-55 Перевод заглавия: Химическое парофазное осаждение и отложение атомарного слоя материалов IV группы и V-окислов для диэлектрических применений Рубрики: осаждение--тонких пленок--в микроэлектронике Кл.слова (ненормированные): газофазное осаждение -- окислы тантала -- циркония и гафния Дескрипторы: сб пр -- моногр Экземпляры всего: 1 02 (1) Свободны: 02 (1) |